我实验室在世界顶级物理杂志《应用物理快报》（Applied Physics Letters, Appl. Phys. Lett.）发表论文：
Chao Wang, Dongfeng Diao, Xue Fan, and Cheng Chen, Graphene Sheets Embedded Carbon Film Prepared by Electron Irradiation in Electron Cyclotron Resonance Plasma, Applied Physics Letters, 100(24):073224APL, 11-JUN-2012.

论文报道了我们最近在电子回旋共振（ECR）等离子体中发明的低能电子照射技术制造了站立式石墨烯嵌层纳米碳膜，这种碳膜的特殊PI电子结构与双层石墨烯结构相似。当电子照射能量达到40eV时，碳膜由非晶向站立式石墨烯嵌层结构转化，石墨烯嵌层结构生长机理为低能电子的非弹性散射。研究结果表明通过低能电子照射可以直接得到石墨烯嵌层纳米碳膜，这种碳膜由于其良好的导电性与纳米摩擦学性能并且可以大面三维生长，具有广泛的应用潜力。

 2012-5-13